《聚焦雷射誘導非線性薄膜結構的高斯透鏡效應研究》是依託中國科學院上海光學精密機械研究所，由魏勁松擔任項目負責人的面上項目。
基本介紹
- 中文名：聚焦雷射誘導非線性薄膜結構的高斯透鏡效應研究
- 項目類別：面上項目
- 項目負責人：魏勁松
- 依託單位：中國科學院上海光學精密機械研究所
- 負責人職稱：研究員
- 批准號：50772120
- 研究期限：2008-01-01 至 2010-12-31
- 申請代碼：E0207
- 支持經費：32（萬元）
項目摘要
在聚焦高斯雷射作用下，由於光學非線性效應，非線性薄膜（結構）的復光學常數將會發生變化，其中折射率隨著雷射能量的不同也會按一定的關係發生改變。採用雷射能量為高斯分布的聚焦光斑與非線性薄膜結構相互作用，在光斑內的折射率也會呈高斯分布。這樣就形成一個折射率為高斯分布的高斯透鏡。該透鏡將進一步對高斯光斑進行整形和會聚，從而在近場範圍內實現超分辨效應，即近場超透鏡效應。該高斯透鏡能打破光的衍射極限實現納米光斑，這對納米信息存儲，光刻和成像等具有重要的套用前景。本項目以具有強的光學非線性薄膜材料為基礎，設計非線性多層薄膜結構，研究其在聚焦高斯雷射束作用下高斯透鏡的形成、光場分布模擬及探測，提出相應的非線性高斯透鏡的物理模型和光場傳播分布的計算方法。同時採用近場光斑掃描法和光斑印記法（直接將高斯透鏡的納米光斑作用在光刻膠或光存儲薄膜上得到光斑的尺寸、形貌和強度等信息）進行模型的驗證。
