線寬偏差，光刻工藝術語，是指一個掩模上所有的關鍵圖形處的線寬通常比另一個掩模的對應線寬相差的固定值。
基本介紹
- 中文名：線寬偏差
- 外文名：CD offset
掩模之間的主要表現線上寬的偏差（offset）。由於製備工藝的差別，一個掩模上所有的關鍵圖形處的線寬通常比另一個掩模的對應線寬相差一個固定值，這個偏差又被稱為“global CD offset”。這種固定的掩模線寬偏差會導致曝光圖像線寬變化的不均勻性，MEEF值是和掩模圖形尺寸及其周圍圖形相關聯的，掩模上的這種線寬變化必然會導致晶圓上“through-pitch”行為的不同。而且，線寬對曝光劑量的敏感度（exposure latitude）也會發生變化。因此，必須調整光照條件來補償這種變化。
在量產時，同一個光刻層可能存在兩塊或者兩塊以上的掩模，這些掩模用於多個光刻機，增大光刻的產能。理論上，這些掩模應該是相同的（nominally identical reticles）；實際上，由於掩模製備工藝的不穩定性，每一個掩模參數與目標值的偏差不完全一樣（particular difference in their mean-to-target）。甚至，這些掩模可能來自於不同得掩模工廠，掩模工廠之間的設備就存在偏差。掩模匹配是通過精細調整光刻機的曝光參數，使得不同掩模在同一台光刻機上曝光得到的結果一致。
