《矽片表面光澤度的測試方法》是2024年3月1日開始實施的一項中國國家標準。
基本介紹
- 中文名：矽片表面光澤度的測試方法
- 外文名：Test method for gloss of silicon wafer
- 標準類別：方法
- 標準號：GB/T 42789-2023
編制進程,起草工作,
編制進程
2023年8月6日，《矽片表面光澤度的測試方法》發布。
2024年3月1日，《矽片表面光澤度的測試方法》實施。
起草工作
主要起草單位：浙江金瑞泓科技股份有限公司、浙江海納半導體股份有限公司、有色金屬技術經濟研究院有限責任公司、天津中環領先材料技術有限公司、山東有研半導體材料有限公司、上海合晶矽材料股份有限公司、麥斯克電子材料股份有限公司、廣東金灣高景太陽能科技有限公司、浙江旭盛電子有限公司、巢湖學院、金瑞泓科技（衢州）有限公司。
主要起草人：梁興勃、李琴、張海英、林松青、潘金平、李素青、張雪囡、由佰玲、邊永智、莊智慧、沈輝輝、焦二強、韓雲霄、徐志群、付明全、詹玉峰、王可勝。
