無接觸矽片測試儀(HS-NCS-300型)可以測量矽片厚度總厚度變化 TTV 、彎曲度, 該儀器適用於 Si , Ga,As , InP Ge 等幾乎所有的材料
儀器簡介,儀器特點,部分技術參數,
儀器簡介
矽片測試儀(HS-NCS-300型)可以測量矽片厚度總厚度變化 TTV 、彎曲度, 該儀器適用於 Si , Ga,As , InP Ge 等幾乎所有的材料,所有的設計都符合 ASTM( 美國材料實驗協會 ) 和 Semi 標準,確保與其他工藝儀器的兼容與統一。
儀器特點
■ 無接觸測量
■ 適用的晶圓材料包括Si,GaAs,InP,Ge等幾乎所有的材料
■ 厚度和 TTV 測量採用無接觸電容法探頭
■ 高解析度液晶屏顯示厚度和 TTV 值
■ 性價比高
■ 選單式快速方便設定
■ 高解析度液晚榜騙晶 LCD 顯示
■ 提供和計算機連線的輸出連線埠
■ 提供印表機連線埠
■ 便攜且易於安裝
■ 為晶圓矽片關鍵生懂遙精產工藝提供精確的無接觸測量
■ 高質量微處理器為精確和重複精度高的測量提供強力煮膠保障
■ 高質量 聚四氟乙烯晶圓測試架,為晶圓矽片精確定位提供保障
部分技術參數
■ 晶圓矽片測試尺寸: 50 mm - 300mm.
■ 厚度測試範圍: 1000 um , 可擴展到 1700 um.
■ 厚煉勸榜度測試精度: +/-0.25um
■ 厚度重複性精度: 0.050um
■ TTV 測試精度 : +/-0.05um
■ TTV 重複性精度 : 0.050um
■ 彎曲度測試範圍: +/-500um [+/-850um]
■ 彎曲度測試精度: +/-2.0um
■ 彎曲度重複性精度: 0.750um
■ 晶圓矽片導電型號: P 或 N 型
■ 材料: Si , GaAs , InP ,甩廈臘燥 Ge 等幾乎 所有半導腳戲匙體材料
■ 可用在: 切片後、磨片前、後, 蝕刻,拋光 以及出廠、入廠質量檢測等
■ 平面 / 缺口:所霉遷射符有的半導體標準平面或缺口
■ 矽片安裝:裸片,藍寶石 / 石英基底, 黏膠帶
■ 連續 5 點測量