《矽片局部平整度非接觸式標準測試方法(GB/T 19922-2005)》修改採用ASTM F 1530—94《自動無接觸掃描測試矽片厚度、平整度及厚度變化的標準檢測方法》。本標準與ASTMF 1530—94相比，僅提供了其有關局部平整度測量的內容，並在矽片尺寸及厚度上與其有所差異。相關術語及測試方法的精密度採用國家標準的規定。本標準的附錄A為資料性附錄。本標準由中國有色金屬工業協會提出。
基本介紹
- 書名：矽片局部平整度非接觸式標準測試方法
- 作者：中華人民共和國國家質量監督檢驗檢疫總局 中國國家標準化管理委員會
- 出版日期：2006年1月1日
- 語種：簡體中文
- ISBN：155066126922
- 外文名：Standard Test Methods for Measuring Site Flatness on Silicon Wafers by Noncontact Scanning
- 出版社：中國標準出版社
- 頁數：6頁
- 開本：16
《矽片局部平整度非接觸式標準測試方法(GB/T 19922-2005)》由全國有色金屬標準化技術委員會歸口。本標準起草單位：洛陽單晶矽有限責任公司、中國有色金屬工業標準計量質量研究所。本標準試驗驗證單位：北京有色金屬研究總院。本標準主要起草人：史舸、蔣建國、陳興邦、賀東江、王文、鄧德翼。本標準由全國有色金屬標準化技術委員會負責解釋。本標準為首次發布。
