《矽基含銅鐵電薄膜異質結集成研究》是依託河北大學，由劉保亭擔任項目負責人的面上項目。
基本介紹
- 中文名：矽基含銅鐵電薄膜異質結集成研究
- 項目類別：面上項目
- 項目負責人：劉保亭
- 依託單位：河北大學
- 批准號：60876055
- 申請代碼：F0404
- 負責人職稱：教授
- 研究期限：2009-01-01 至 2011-12-31
- 支持經費：33（萬元）
項目摘要
本項目以實現含銅矽基鐵電器件尤其是鐵電存儲器的集成為目的，套用磁控濺射和溶膠凝膠沉積法，藉助Ni-Al等金屬間化合物薄膜作阻擋層，在矽襯底上生長Cu薄膜，研究Ni-Al等的組分、結晶狀態、厚度、雜質含量等對Cu薄膜的結構、界面狀態、輸運性質等影響，探討Ni-Al等金屬間化合物薄膜用作阻擋層的失效機理。套用透射電鏡、X射線衍射等技術研究Cu薄膜上面繼續生長氧化物鐵電薄膜異質結後的結構、應力、界面、成分等，揭示矽基複合集成異質結的微結構、界面與生長溫度等的關係。套用第一性原理研究金屬間化合物薄膜雜質的影響和界面性質。通過光刻等手段製備鐵電電容器，進行疲勞、保持等鐵電性能的研究。本項目的完成可以為金屬間化合物阻擋層的研究提供基礎，發現能夠滿足氧化物鐵電薄膜異質結、Cu薄膜和Si襯底同時集成的阻擋層材料，對含Cu矽基鐵電器件的發展具有重要意義。
