玻璃材料光譜測量儀是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2006年7月1日啟用。
基本介紹
- 中文名:玻璃材料光譜測量儀
- 產地:美國
- 學科領域:材料科學
- 啟用日期:2006年7月1日
- 所屬類別:分析儀器 > 光譜儀器
玻璃材料光譜測量儀是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2006年7月1日啟用。
玻璃材料光譜測量儀是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2006年7月1日啟用。技術指標測量範圍:透射比10%~90%;波長3000nm~250nm;0度~80度 透射比準確度<0.5% 波長準確度<0.2nm 雜散輻射率...
X光譜計簡稱:XRF光譜儀,是一種快速的、非破壞式的物質測量方法。X射線螢光(X-ray fluorescence,XRF)是用高能量X射線或伽瑪射線轟擊材料時激發出的次級X射線。這種現象被廣泛用於元素分析和化學分析,特別是在金屬,玻璃,陶瓷和建材的調查和研究,地球化學,法醫學,考古學和藝術品,例如油畫和壁畫。使用型態 XR...
絕對反射率測量儀是一種用於物理學、生物學、工程與技術科學基礎學科、材料科學領域的分析儀器,於2006年7月1日啟用。技術指標 光譜反射比測量範圍:反射比10%~90%;波長2500nm~250nm 測量角度:8度~68度 反射比重複性:<0.2% 波長準確度0.2nm 雜散輻射率:0.0002。主要功能 建築玻璃性能及材料光學性能...
德國物理學家夫朗和費,重新發現和編繪的太陽光譜圖,內有多條黑線(700多條),並對其中的重要黑線用從A到H等字母標記(人稱“夫浪和費錢”),這些黑線後來成為比較不同玻璃材料色散率的標準。這些成果在1814年至1815年間陸續發表。夫琅和費還發明了衍射光柵。開始他用銀絲纏在兩根螺桿上,做成光柵。後來建造了...
薄膜測量在半導體晶片生長過程中經常被用到,因為電漿刻蝕和澱積過程需要監控;其它套用如在金屬和玻璃材料基底上鍍透明光學膜層也需要測量膜層厚度。配套的廣州標旗套用軟體包括豐富的各種常用材料和膜層的n值和k值,可以實現膜層厚度的線上監測,並可以輸出到Excel檔案進行過程控制。真空室鍍膜過程監控 光纖光譜儀為...
單色儀是利用色散元件(稜鏡、光柵等)對不同波長的光具有不同色散角的原理,將光輻射能的光譜在空間分開,並由入射狹縫和出射狹縫的配合,在出射狹縫處得到所要求的窄譜段光譜輻射。稜鏡單色儀 單色儀工作的譜段範圍主要取決於稜鏡所用材料及其色散值,稜鏡的色散值應儘可能大。在可見譜段,玻璃的色散值隨波長λ...
近紅外光譜儀的光學材料為一般的石英或玻璃儀器價格低操作空間小樣品大多數不需要預處理投資及操作費用較低而且儀器的高度自動化降低了操作者的技能要求。當然,近紅外光譜分析也有其固有的缺點:首先,它的測試靈敏度比較低,相對誤差比較大;其次,由於是一種間接測量手段,需要用參考方法(一般是化學分析方法)獲取一定...