水溶液蒸發法是指將溶劑中的水蒸發逸出，使溶液處於過飽和狀態，從而使晶體生長有足夠驅動力的晶體生長法。主要裝置有自控加熱器，轉晶電機，冷凝回收溶劑裝置等。
基本介紹
- 中文名：水溶液蒸發法
- 外文名：aqueous solution evapouration method
- 學科：材料工程
- 領域：工程技術
簡介,基本原理,優缺點,
簡介
溶劑蒸發法是指將溶劑中的水蒸發逸出，使溶液處於過飽和狀態，從而使晶體生長有足夠驅動力的晶體生長法。主要裝置有自控加熱器，轉晶電機，冷凝回收溶劑裝置等。生長時可以保持恆溫，用控制蒸發量來控制溶液的過飽和度，得到的晶體成分均勻，生長過程穩定，利於摻雜晶體生長。但是排出腐蝕溶劑，蒸發速率難控制,出現局部高過飽和度使晶體交又生長。
基本原理
基本原理是將作為浴劑的水不斷地蒸發移出，以保持溶液處於過飽和狀態，使晶體生長具有足夠的驅動力，並用控制蒸發量的多少來控制飽和度的大小。主要裝置有自控加熱器、轉晶電機、冷凝回收溶劑裝置等。
優缺點
優點是生長時可以保持恆溫，得到的晶體成分均勻，特別有利於摻雜晶體的生長。缺點是將大量腐蝕溶劑的蒸發速率較難控制，通常會在熔體表面發生成核，因為由於溶劑損失產生了局部的高過飽和度，並常出現晶體的互動生長。只有當結晶發生在坩堝底部時，才可能生長出質量非常好的晶體。蒸發法在工業生產中運用廣泛。
