《氣體供應系統及其氣體輸送方法、電漿處理裝置》是中微半導體設備（上海）股份有限公司於2019年12月6日申請的專利，該專利公布號為CN112928008A，專利公布日為2021年6月8日，發明人是連增迪、左濤濤、吳狄。
基本介紹
- 中文名：氣體供應系統及其氣體輸送方法、電漿處理裝置
- 授權公告號：CN112928008A
- 授權公告日：2021年6月8日
- 申請號：201911243135X
- 申請日：2019.12.06
- 申請人：中微半導體設備（上海）股份有限公司
- 地址：201201上海市浦東新區金橋出口加工區（南區）泰華路188號
- 發明人：連增迪; 左濤濤; 吳狄
- Int. Cl.：H01J37/32(2006.01)I
- 專利代理機構：北京集佳智慧財產權代理有限公司11227
- 代理人：張靜
專利摘要
本申請實施例公開了一種氣體供應系統，包括多個氣體輸入管路和氣體輸出管路，所述氣體輸入管路包括並聯的第一氣體輸出支路和第二氣體輸出支路，所述氣體輸出管路包括第一氣體輸出管路和第二氣體輸出管路，所述第一氣體輸出管路的輸出端與所述第二氣體輸出管路的輸入端相連，第二氣體輸出管路的輸出端用於給電漿處理設備的腔室輸送氣體，第一氣體輸出管路與多個氣體輸入管路中的第一氣體輸出支路的輸出端相連通，第二氣體輸出管路與所多個氣體輸入管路中的第二氣體輸出支路的輸出端相連通，從而在多個氣體輸入管路中輸出不同流量需求的第一氣體和第二氣體時，以解決小流量需求的第二氣體對電漿處理工藝過程的改善效果較為有限的問題。
