氣液兩相流場粒子陰影測速系統

氣液兩相流場粒子陰影測速系統是一種用於能源科學技術、機械工程領域的電子測量儀器，於2019年3月1日啟用。

基本介紹

• 中文名：氣液兩相流場粒子陰影測速系統
• 產地：中國
• 學科領域：能源科學技術、機械工程
• 啟用日期：2019年3月1日
• 所屬類別：電子測量儀器

技術指標

CCD相機，型號SM-CCDB8M21，科研級晶片，解析度3310 x 2480 (8M)；像素尺寸 5.5 μm；灰度等級12 bit；PIV 模式最小曝光時間間隔≤300 ns；採集速率21 幀/秒。 高能雙脈衝雷射器，型號SM-LASER-BM200-15，波長532 nm；脈衝能量2×200 mJ；脈衝寬度6-8 ns；重複頻率1-15 HZ。集成光束傳輸系統(七關節高精度導光臂)1.8 m；集成光束整形系統，片光最薄厚度小於1 mm，焦距可調。 同步控制器，型號SM-MICROPULSE725，獨立8通道輸出；時間精度0.25 ns；信號格式TTL；可獨立工作，具備5種基本工作模式（內同步、內觸發、外同步、外觸發、外部門控）；獨立2輸入通道：可外觸發鎖相工作；控制接口計算機 USB2.0 軟體設定控制；軟體設定控制；配備專用觸發信號線、USB 電纜。

主要功能

對常規流體進行平面二維（2D2C）/平面三維（2D3C）速度場測試；水流測試時最大視場450 mm×400 mm；測速範圍0～1000 m/s；具備平面雷射誘導螢光（PLIF）測量功能；具備兩相流測量功能。