橢圓偏振儀測量矽表面上二氧化矽薄層厚度的方法

橢圓偏振儀測量矽表面上二氧化矽薄層厚度的方法

《橢圓偏振儀測量矽表面上二氧化矽薄層厚度的方法》是2015年4月15日實施的一項中國國家標準。

基本介紹

  • 中文名:橢圓偏振儀測量矽表面上二氧化矽薄層厚度的方法
  • 外文名:Test method for the thickness of silicon oxide on Si substrate by ellipsometer
  • 標準號:GB/T 31225-2014
  • 標準類別:方法
編制進程,起草工作,

編制進程

2014年9月30日,《橢圓偏振儀測量矽表面上二氧化矽薄層厚度的方法》發布。
2015年4月15日,《橢圓偏振儀測量矽表面上二氧化矽薄層厚度的方法》實施。

起草工作

主要起草單位:上海交通大學、納米技術及套用國家工程研究中心。
主要起草人:金承鈺、李威、梁齊、路慶華、何丹農、張冰。

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