《新型功能化低維材料的電子性質》是電子工業出版社2016年8月出版的圖書,作者是琚偉偉、李同偉。
基本介紹
- 書名:新型功能化低維材料的電子性質
- 作者:琚偉偉、李同偉
- ISBN:9787121294112
- 頁數:124
- 出版社:電子工業出版社
- 出版時間:2016-08
- 開本:16開
- 千 字 數:199
- 版 次:01-01
內容簡介,目錄信息,
內容簡介
本書是作者近年來在對新型低維材料的電子結構、磁特性及相變的研究基礎上撰寫而成的,系統地介紹了應力、吸附、摻雜等調控方法對幾種典型低維材料的電子性質及磁性的影響。全書共8章,第1、2章介紹了相關材料的研究背景及理論方法,第3章介紹了磷烯在應力作用下電子結構的變化,第4、5章介紹了雜質原子吸附對矽烯電學和磁學性質的影響,第6~8章研究了不同種類的吸附物質對二硫化鉬性質的影響。 本書可供相關低維材料領域的科技工作者參考,也可作為高等院校相關專業的本科生和研究生的參考書。
目錄信息
第1章 緒論 1
1.1 石墨烯的研究進展 1
1.1.1 石墨烯的誕生 1
1.1.2 石墨烯的奇特電子結構 1
1.1.3 石墨烯納米帶 3
1.1.4 氫化石墨烯的電子性質 5
1.2 二維過渡金屬硫屬化合物簡介 8
1.2.1 單層過渡金屬硫屬化合物(TMDs)的種類 8
1.2.2 單層過渡金屬硫屬化合物(TMDs)的性質 9
1.3 矽烯的研究進展 10
1.4 磷烯的研究進展 11
1.5 其他二維納米材料 12
1.5.1 二維氮化硼的基本性質 12
1.5.2 氧化鋅的基本性質 13
參考文獻 13
第2章 理論方法 19
2.1 能帶理論的三大近似 19
2.1.1 絕熱近似 19
2.1.2 單電子近似與密度泛函理論 20
2.1.3 交換關聯泛函的簡化 22
2.1.4 周期性勢場近似及布洛赫定理 23
2.2 勢與波函式的處理 24
2.2.1 平面波方法 25
2.2.2 原子軌道線性組合法 26
2.2.3 贗勢方法 27
2.2.4 投影綴加波法 28
2.3 Kohn-Sham方程的自洽求解 28
參考文獻 29
第3章 應力作用下多層磷烯的相變 33
3.1 概述 33
3.2 平面雙軸應力對多層磷烯的影響 34
3.2.1 計算方法和模型 34
3.2.2 結果和討論 35
3.3 垂直壓縮應力對多層磷烯的影響 40
3.3.1 計算方法和模型 40
3.3.2 結果和討論 40
參考文獻 44
第4章 吸附對矽烯電子性質的影響 47
4.1 概述 47
4.2 計算模型和方法 48
4.3 不同濃度的吸附原子對矽烯的影響 49
4.3.1 幾何結構和穩定性 49
4.3.2 電子結構和磁性 50
4.3.3 軌道特徵和雜化 54
參考文獻 56
第5章 局部氫化矽烯中奇異的d0磁性 61
5.1 概述 61
5.2 計算模型和方法 61
5.3 局部氫化矽烯的磁性及熱穩定性 63
5.3.1 奇異的d0磁性 63
5.3.2 氫化矽烯的熱穩定性 67
5.3.3 關於氫化矽烯磁性的規律 69
參考文獻 69
第6章 過渡金屬原子的取代摻雜對單層MoS2性質的影響 73
6.1 概述 73
6.2 計算模型和方法 74
6.3 TM-MoS2的性質研究 75
6.4 O2吸附於TM-MoS2 77
6.4.1 O2在Pt-、Pd-、Ni-MoS2表面的吸附 78
6.4.2 O2在Ir-、Rh-、Co-MoS2表面的吸附 80
6.4.3 O2在Au-、Ru-MoS2表面的吸附 82
參考文獻 83
第7章 CO和NO吸附對金屬元素摻雜的單層MoS2電子性質的影響 89
7.1 概述 89
7.2 計算模型和方法 90
7.3 CO和NO吸附於金屬摻雜的單層MoS2表面 90
7.3.1 CO的吸附 90
7.3.2 NO的吸附 94
參考文獻 97
第8章 基於單層MoS2的甲醛氣體檢測器 101
8.1 概述 101
8.2 計算模型和方法 102
8.3 Cl、P和Si原子摻雜的單層MoS2的性質研究 102
8.4 甲醛分子在MoS2表面的吸附 104
8.4.1 甲醛分子在純淨MoS2及Cl-MoS2表面的吸附 104
8.4.2 甲醛分子在P-MoS2表面的吸附 106
8.4.3 甲醛分子在Si-MoS2表面的吸附 108
參考文獻 110