簡介,內容,
簡介
現在大部分器件的特徵尺寸通常小於1μm。大部分摻雜是通過離子注入而不是預澱積擴散完成的。但是，當需要製作重摻雜的薄層時，有時會採用擴散爐管來摻入所需雜質。除了採用的受控氣體是惰性氣體如氮氣或Ar而不是氧氣外，這些擴散爐管和氧化爐管是一樣的。在爐管中進行重摻雜有兩種方式：固態源摻雜和液態源摻雜。
內容
大部分液態源雜質是通過氣相傳輸方法送入爐管的。盛放液體的密封器（起泡器）被擒在一個恆溫水槽中，從而在液體表面的上方產生一個一致的雜質蒸汽壓。一個經調節的惰性氣體（通常是氮氣）的氣流，被吹進起泡器中，產生氮氣和雜質蒸汽的混合氣體被送入爐管。爐管氣氛中的雜質分壓通過水槽的溫度，液體上方的蒸汽壓力以及流經起泡器的氣流流量與進入爐管的其它所有氣流量的總和之間的比例來控制。一般還要安裝一個旁路裝置，它可以精確控制從起泡器出來的蒸汽氣流的通和斷，從而更好地控制摻雜時間。通常還必須有一個氧氣氣源，使氧氣和進入爐管的雜質氣體反應。
最常用的硼源是BBr3，它的沸點是90°C.人們認為爐管中發生的化學反應包括源的反應
2BBr3 → 2B + 3Br2
一個氧化反應
4B + 3O2 → 2B2O3
B2O3 被輸送到圓片表面，在那裡它是表面的矽原子氧化，以釋放出自由的硼原子：
2B2O3 + 3Si → 4B + 3SiO2
