掩模規則檢查是指設計圖形經過光學臨近修正處理後，在被傳送到掩模生產廠之前，必須做的檢查。
基本介紹
- 中文名：掩模規則檢查
- 外文名：mask rule check
設計圖形經過OPC處理後（post-OPC），在被傳送到掩模生產廠之前，必須要做所謂的掩模規則檢查（mask rule check，MRC）。MRC檢查“post-OPC”數據，確認其中所有圖形適合掩模版製備工藝。MRC中的規則是由掩模版廠提供的，OPC工程師將這些規則輸入到MRC軟體中。
MRC規則主要包括如下內容：
（1）對圖形的最小線寬（minWidth），線間距（minSpace），做出規定；也可以對亞解析度輔助圖形（SRAF）的線寬和間距限定最小值。
（2）對圖形拐角之間間距（corner-to-corner）的最小值做出規定；也可以對亞解析度輔助圖形（SRAF）與主圖形之間的距離做出限定。
（3）對輔助圖形的最小面積（minimun SRAF area）做出限定。
