接近式光刻

接近式光刻，又稱非接觸式光刻。是一種使塗敷在從片上的光敏材料，經受穿過與其接近但不接觸的光學掩模版的光福照曝光，從而複印出光學掩模版圖形的方法。

基本介紹

• 中文名：接近式光刻
• 外文名：proximity print ;non contact printing

在接近式光刻中，會連續複製整個矽片圖形，掩模版不與光刻膠直接接觸。它與光刻膠表面接近，在掩模版和矽片表面光刻膠之間大約有2.5~25微米的間距。光源產生的是被準直的，光束彼此平行。