微束X射線顯微分析系統是一種用於核科學技術領域的分析儀器，於2009年12月7日啟用。
基本介紹
- 中文名：微束X射線顯微分析系統
- 產地：中國
- 學科領域：核科學技術
- 啟用日期：2009年12月7日
- 所屬類別：分析儀器 > 顯微鏡及圖象分析儀器
技術指標,主要功能,
技術指標
X射線探測器：高性能Si-PIN探測器； 能量解析度（FWHM）：不大於180eV（5.9keVX射線）； 激發源：238Pu,241Am、低功率微束X射線管(高壓，20~60kV；電流，50~2000μA) 微區斑點直徑：(30~75)μm； 可分析元素範圍：Al(13)-U(92)； 準確度：小於（5~50）%RSD，精密度：＜10%RSD，檢出限：（10~1000）×10-6g/g。 不穩定度：＜1道（2048道，自穩狀態）； 定位方式及精度：雷射定位，10μm，微控台移動長（X，Y）：10μm； 顯微成像系統：CCD高倍放大系統（50~400倍）； 重量：10.0kg；大小：500x673x300mm；功耗：110W；供電：220V/50Hz；環境溫度：（20~30）°C。
主要功能
礦石礦物成分分析、合金成分微區分析。
