《強磁場下界面金屬間化合物層生長規律的研究》是依託大連理工大學,由趙傑擔任醒目負責人的面上項目。
基本介紹
- 中文名：強磁場下界面金屬間化合物層生長規律的研究
- 依託單位：大連理工大學
- 項目類別：面上項目
- 項目負責人：趙傑
- 批准號：50471068
- 申請代碼：E0101
- 負責人職稱：教授
- 研究期限：2005-01-01 至 2007-12-31
- 支持經費：20（萬元）
項目摘要
強磁場作為極端條件是揭示物質內部自由度的最有效手段，從材料學的角度，由於強磁場下電磁力的作用範圍可達原子尺度，從而對材料的組織和性能產生巨大而深刻的影響，因此能揭示材料在常規條件下難以出現的奇異現象，為材料研究者開展廣泛領域的研究提供了可能和巨大的發展機遇。本項目以Sn-Pb、Sn-Ag基合金與Cu、Ni之間形成的金屬間化合物層（界面IMC層）為對象，研究強磁場和溫度場作用下界面IMC層生長的動力學規律、界面IMC層的結構特點、合金元素對界面IMC層生長的影響作用以及界面IMC層的生長機理。由於目前有關強磁場對界面IMC層生長規律的研究在國內外未見報導，是尚待開發的新的研究領域之一，因此通過本項目的研究，有望拓展和加深對界面IMC層生長規律、界面IMC層的擴散模型和機理的認識。同時，本項目成果將就界面IMC層的生長在複合材料製備、材料表面改性、電子封裝器件中界面結合強度等方面有重要意義。
