多腔體高真空薄膜沉積系統

多腔體高真空薄膜沉積系統是一種用於物理學領域的工藝試驗儀器，於2010年10月15日啟用。

基本介紹

• 中文名：多腔體高真空薄膜沉積系統
• 產地：中國
• 學科領域：物理學
• 啟用日期：2010年10月15日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 電真空器件工藝實驗設備

技術指標

有機真空室極限真空度：1.5×10-7Pa；電子槍真空室極限真空度：1.1×10-5Pa；進樣真空室極限真空度：2.5×10-5Pa；樣品架可升降旋轉，樣品加熱：~600℃。

主要功能

有機光電子材料與器件製備。