多功能超高分辨電子束刻蝕系統

多功能超高分辨電子束刻蝕系統是一種用於物理學領域的工藝試驗儀器，於2013年5月30日啟用。

基本介紹

• 中文名：多功能超高分辨電子束刻蝕系統
• 產地：德國
• 學科領域：物理學
• 啟用日期：2013年5月30日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 半導體積體電路工藝實驗設備

技術指標

特徵尺度小於10納米，線間距小於40納米，樣品尺寸4英寸。

主要功能

多功能超高分辨電子束刻蝕系統包含電子束光刻，掃描電鏡成像，電子束原位誘導沉積和刻蝕，納米操縱和光譜分析，以及三維光刻等功能。