單晶熔煉爐

單晶熔煉爐是一種用於冶金工程技術領域的分析儀器，於2018年12月14日啟用。

基本介紹

• 中文名：單晶熔煉爐
• 產地：中國
• 學科領域：冶金工程技術
• 啟用日期：2018年12月14日
• 所屬類別：分析儀器 > 電子光學儀器

技術指標

電阻加熱溫度範圍：室溫~1600℃，PID控溫，極限真空度5*10^（-4），壓升率≤0.67Pa/H,通入工作氣氛，氬氣；工作壓力範圍：1.0- 2.0bar；。

主要功能

1. 在真空或超純氣氛保護下，採用電阻加熱提拉法製備單晶。 2. 在真空或超純氣氛保護下，採用電阻加熱坩堝下降法製備單晶或定向凝固柱狀晶； 3. 在真空或超純氣氛保護下，在高達106 K/sec的冷卻速度下製備非晶/微晶薄帶或材料； 4. 採用翻轉澆鑄法製備塊狀或棒狀合金試樣。