《可見光光敏引發體系和計算機直接製版材料的研究》是依託中國科學院理化技術研究所，由楊永源擔任項目負責人的面上項目。
基本介紹
- 中文名：可見光光敏引發體系和計算機直接製版材料的研究
- 項目類別：面上項目
- 項目負責人：楊永源
- 依託單位：中國科學院理化技術研究所
- 申請代碼：E0309
- 批准號：59773011
- 研究期限：1998-01-01 至 2000-12-31
- 支持經費：13（萬元）
- 負責人職稱：研究員
項目摘要
合成了7個與氬離子（488nm）雷射相匹配的光敏劑；八個鹼溶性成膜樹脂，優選出六種單和多官能團單體和五個高活性助引劑通過光敏聚合動力學的研究，得到光敏劑，引發劑和助引發劑濃度對光聚合速率影響規律，並優選出兩類兩個高效光敏引發劑體系，套用於計算機直接製版光敏材料通過大量的配方研究，最終在實驗室研製出高靈敏度CTP版樣品，其靈敏度達0.5mj/cm2，解析度7um，網點再現性2%對感熱。和紫外雷射CTP版材進行了探索，取得了較好的結果，在三年中共培養了一名碩士生，一名博士生，發表16篇學術論文，其中國外刊物6篇，國內刊物10篇，會議論文2篇該研究不僅對印刷版材而且對光致抗蝕劑 ，雷射全息和立體光刻都有指導意義。
