雷射由發射端發出，通過測量部分中的工藝氣體，到達接收端的檢測器上。原位氧氣分析儀 測量將在短時間內線上進行，在過程控制中有效地節約成本。雷射的本質特性決定了單一的光譜可以不受干擾。由於雷射的頻寬特別窄，只有吸收光譜與之相吻合的氣體組分才能夠有（吸收）反應。由於雷射技術所固有的優秀補償能力，所以來自其它方面的干擾，例如灰塵和溫度，就可很容易地被去除。 原位氧氣分析儀線上的內置參比池充滿了無干擾參比氣體，是已存在的西門子TDL（可調諧二極體雷射）技術優勢的進一步發展，無需人為自標定而且維修要求低，為客戶提供了一個理想的解決方案。
原位氧氣分析儀套用
原位氧氣分析儀過程控制（化學工業）
原位氧氣分析儀過程最佳化（鋼鐵工業）
原位氧氣分析儀安全監控，例如：測量防爆環境中氧氣最大與最小濃度值。
原位氧氣分析儀優勢
原位測量，不需要氣體採樣設備。
原位氧氣分析儀內置的自動標定—運行穩定
原位氧氣分析儀動態煙塵補償
原位氧氣分析儀快速回響
原位氧氣分析儀沒有交叉干擾
原位氧氣分析儀可選防爆型號：ATEII2GExdeIICT6II2DExtDA21IP65T85oC
原位氧氣分析儀在“全集成自動化”（TIA）的平台概念
技術參數原位氧氣分析儀
測量組分O21）
測量量程0-100%，低量程可選
解析度2）0.02Vol%
光程1-8m
過程氣體溫度0-600oC
過程氣體壓力0.7-5bar絕壓（T<200oC）0.9-1.1bar絕壓（T<600oC）
回響時間1-3s
2個模擬輸出，2個二進制輸出，
電氣輸入輸出2個模擬輸入，
2個二進制輸入，PROFIBUSDP(可選)。
原位氧氣分析儀1）對於其他的氣體測量，請聯繫當地的西門子代理商。
低成本、高性能的單點測量2）標準值，對於特殊套用的數據，請聯繫當地的西門子
低維護代理商。
校準及維修方便簡單
原位氧氣分析儀過程控制（化學工業）
原位氧氣分析儀過程最佳化（鋼鐵工業）
原位氧氣分析儀安全監控，例如：測量防爆環境中氧氣最大與最小濃度值。
原位氧氣分析儀優勢
原位測量，不需要氣體採樣設備。
原位氧氣分析儀內置的自動標定—運行穩定
原位氧氣分析儀動態煙塵補償
原位氧氣分析儀快速回響
原位氧氣分析儀沒有交叉干擾
原位氧氣分析儀可選防爆型號：ATEII2GExdeIICT6II2DExtDA21IP65T85oC
原位氧氣分析儀在“全集成自動化”（TIA）的平台概念
技術參數原位氧氣分析儀
測量組分O21）
測量量程0-100%，低量程可選
解析度2）0.02Vol%
光程1-8m
過程氣體溫度0-600oC
過程氣體壓力0.7-5bar絕壓（T<200oC）0.9-1.1bar絕壓（T<600oC）
回響時間1-3s
2個模擬輸出，2個二進制輸出，
電氣輸入輸出2個模擬輸入，
2個二進制輸入，PROFIBUSDP(可選)。
原位氧氣分析儀1）對於其他的氣體測量，請聯繫當地的西門子代理商。
低成本、高性能的單點測量2）標準值，對於特殊套用的數據，請聯繫當地的西門子
低維護代理商。
校準及維修方便簡單
