《半導體單晶晶體質量的測試 X射線衍射法》是2024年3月1日開始實施的一項中國國家標準。
基本介紹
- 中文名：半導體單晶晶體質量的測試 X射線衍射法
- 外文名：Test method for crystalline quality of semiconductive single crystal—X-ray diffraction method
- 標準類別：方法
- 標準號：GB/T 42676-2023
編制進程,起草工作,
編制進程
2023年8月6日，《半導體單晶晶體質量的測試 X射線衍射法》發布。
2024年3月1日，《半導體單晶晶體質量的測試 X射線衍射法》實施。
起草工作
主要起草單位：中國電子科技集團公司第四十六研究所、有色金屬技術經濟研究院有限責任公司、北京通美晶體技術股份有限公司、山東有研半導體材料有限公司、弘元新材料（包頭）有限公司、哈爾濱科友半導體產業裝備與技術研究院有限公司、浙江海納半導體股份有限公司、國標（北京）檢驗認證有限公司、丹東新東方晶體儀器有限公司、有研國晶輝新材料有限公司、江蘇卓遠半導體有限公司、新美光（蘇州）半導體科技有限公司。
主要起草人：何烜坤、劉立娜、李素青、龐越、馬春喜、許蓉、任殿勝、王元立、朱曉彤、李向宇、楊陽、潘金平、王書明、趙松彬、林泉、李國平、張新峰、趙麗麗、夏秋良。
