全譜直讀ICP發射光譜儀是一種用於化學領域的分析儀器，於2016年10月28日啟用。
基本介紹
- 中文名：全譜直讀ICP發射光譜儀
- 產地：美國
- 學科領域：化學
- 啟用日期：2016年10月28日
- 所屬類別：分析儀器 > 光譜儀器 > 光電直讀光譜儀
技術指標,主要功能,
技術指標
射頻發生器技術指標：1.電路類型：自激振盪電路，同軸電纜輸出，匹配調諧，功率反饋閉環自動控制。2.工作頻率：40.68MHz±0.05％ 3.頻率穩定性：＜0.1% 4.輸出功率：800W—1200W 5.輸出功率穩定性：＜0.2% 6.電磁場泄漏輻射強度：距機箱30cm處電場強度E：＜10V/m ；磁場：H＜0.2A/m。進樣裝置技術指標：1.輸出工作線圈：銅質，帶有聚四氟乙烯外套，內徑25mm，3匝。2.矩管：三同心型，外徑20mm的石英矩管3.同軸型噴霧器：外徑6mm 4.雙筒形霧室外徑：35mm 5.氬氣流量計規格和載氣壓力表規格：（1）等離子氣流量計 ：0.0-20.0L/min（2）輔助氣流量計： 0.0-1.0L/min（3）載氣流量計：0.0-1.0L/min（4）載氣穩壓閥：0-0.4MPa（5）冷卻水：水溫20-25℃ 流量＞7L/min 水壓＞0.1MPa ，冷卻水電阻率大於1MΩ。分光器技術指標:1.光路：Czerny-Turner 2.焦距： 1000 mm3.光柵規格：離子刻蝕全息光柵，刻線密度3600線/mm（可選用刻線密度2400線/mm），刻劃面積。
主要功能
金屬材料（包括貴金屬、稀有金屬）、非金屬材料、礦石、土壤、核燃料、煤、石油及其產品、化肥、化工原料、半導體晶片、陶瓷材料、食品、藥品、血液、水（純水、廢水）、空氣等幾乎所有材料中雜質（或粒子）的測定。
