內裝式磁控濺射源系統

內裝式磁控濺射源系統是一種用於物理學領域的工藝試驗儀器，於2014年10月10日啟用。

基本介紹

• 中文名：內裝式磁控濺射源系統
• 產地：美國
• 學科領域：物理學
• 啟用日期：2014年10月10日
• 所屬類別：工藝試驗儀器

技術指標

1. 濺射靶尺寸：508mm*38mm 2. 最低濺射氣壓：1mTorr 3. 電源功率為1500W。

主要功能

套用於大尺寸X射線多層膜製作。