指掩模版上圖形的方向在光刻圖形轉移以後，在基片上所得到的圖形方向與所需要的圖形方向相反。
基本介紹
- 中文名：光掩模方向性錯誤
- 外文名：mask directional error
在光刻圖形轉移工藝後基片上的圖形方向不但與掩模版上的圖形方向有關（如通常工作掩模版鉻膜朝下的圖形方向與光刻後基片上的圖形方向一致），還與製造掩模版的設備默認的圖形數據方向有關（如光學圖形發生器製備出來的中間掩模版鉻膜朝下的圖形方向與原設計圖紙上的圖形方向相反，而光學圖形發生器製備出來的掩膜版圖形方向與電子束或者雷射掩模製造系統製備出來的掩膜版圖形方向相反），同時與掩模版用途有關（中間掩模版鉻膜朝下的圖形方向與光刻後基片上的圖形方向相反，工作掩模版鉻膜朝下的圖形方向與光刻後基片上的圖形方向一致，在矽片上或者石英玻璃基片上直寫的結構圖形的方向與設計圖紙本身的方向一致）。在掩模版製造工藝中務必要注意，如果圖形方向不對，需要增加數據鏡像處理，否則造成廢品。
