光催化系統

光催化系統就是光觸媒在外界光的作用下發生催化作用,光觸媒在光照條件下(可以是不同波長的光照)所起到的催化作用的化學反應。從1972年,Fujishima在半導體TiO2電極上發現了水的光催化分解作用,從而開闢了半導體光催化這一新的領域。1977年,Yokota發現光照條件下,二氧化鈦對丙烯環氧化具有光催化活性,拓寬了光催化套用範圍,為有機物氧化反應提供了一條新思路。此後光催化技術在能源制氫、二氧化碳還原、污染物降解等方面迅速發展起來,光催化制氫在解決環境和能源問題上具有廣闊的套用前景。

基本介紹

  • 中文名:光催化系統
  • 外文名:Photo catalytic system
  • 用途:用於實現光催化作用的系統
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原理介紹

當光子能量高於轎滲訂半導體吸收閾值的光照射半導體時,半導體的價帶電子發生帶間躍遷,即從價帶躍遷到導帶,從而產生光生電子(e-)和空穴(h+)。此時吸附在納米顆粒表面的溶解氧俘獲電子形成超氧負離子,而空穴將吸附在催化劑表面的氫氧根離子和水氧化成氫氧自由基。
光催少乘察頸化原理
光催化系統
光催化原理

系統介紹

隨著全球化石能源日益枯竭、環境問題日益嚴峻,嚴重製約了人類的可持續發展。尋找清潔、安全、高效的新型能源成為了人們關注的重點。1
RTK光協良催化系統972年,日本FujishimaA和HondaK首次報導了TiO2光催化分解水產生H2這一現象後,揭示了利用太陽光分解水制氫的可能性,開闢了將太陽能轉換為氫能的研究道路。隨後,科學家們不斷研究具有高催化性的催化劑及研究體系,並取得了重大進展。光催化系統作為研究的必備儀器,起到了舉足輕重的作用。RTK光催化系統國內首家突破傳統體系,模擬工業化生產環境,實現常溫常壓條件下研究環境,採用獨特的RTKGMC專利技術,無需GC,直接對光催化過程中的產氣量歸戰擊(氫氣或氧氣)或產氣速率進行計量。同時,突破了傳統裝置由於自身設計所導致的低量程瓶頸,可以實現較高量程產氣量(產氣速率)的實時、線上監測,適用於各種不同產率的催化劑體系評價。光催化系統可以套用於常溫常壓光催化制氫、常溫常壓光催化制氧、常溫常壓二氧化碳還原以及光催化降解等領域。
光催化系統
RTK光催化系統

系統特點

1、非真空:實現常溫常壓條件下光解水制氫;
2、簡單不漏氣:配套裝置少,易操作,易維護。無真空玻璃管道,無複雜安裝。無閥門,不漏氣;
3、重複性好:直接計量產氣量(產氣速率),避免了傳統裝置因氣體循環不暢所導致的測量誤差,實驗重複性更好;
4、高棗廈巴量程:測量產率可高達滲喇端800mmol/g/h,適合各種產率催化劑體系的研究;
5、自動測量:RTKGMC專利技術,實時自動記錄測量數據,無需GC,無標定誤差;
6、無需計算:避免了傳統裝置產氫量的計算誤差,直接測量產氫體積(或質量、產氫速率),無需計算;
7、模擬工業環境:非真空環境更加接近真實的工業環境,可以探索工業條件下的光解水制氫;
8、多通道:可根據客戶的科研需求,個性化定製多通道裝置,有利於做平行實驗。

技術參數

1、工作去重拘悼環境:常溫常壓;
2、測量技術:GMC專利技術;
3、測量精度:0.0350mL;
4、測量量程:0-800mmol/g/h;
5、尺寸大小:1000px(L)*875px(W)*750px(H)
2、測量技術:GMC專利技術;
3、測量精度:0.0350mL;
4、測量量程:0-800mmol/g/h;
5、尺寸大小:1000px(L)*875px(W)*750px(H)

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