光催化系統

光催化系統就是光觸媒在外界光的作用下發生催化作用，光觸媒在光照條件下（可以是不同波長的光照）所起到的催化作用的化學反應。從1972年，Fujishima在半導體TiO2電極上發現了水的光催化分解作用，從而開闢了半導體光催化這一新的領域。1977年，Yokota發現光照條件下，二氧化鈦對丙烯環氧化具有光催化活性，拓寬了光催化套用範圍，為有機物氧化反應提供了一條新思路。此後光催化技術在能源制氫、二氧化碳還原、污染物降解等方面迅速發展起來，光催化制氫在解決環境和能源問題上具有廣闊的套用前景。

基本介紹

• 中文名：光催化系統
• 外文名：Photo catalytic system
• 用途：用於實現光催化作用的系統

原理介紹

當光子能量高於轎滲訂半導體吸收閾值的光照射半導體時,半導體的價帶電子發生帶間躍遷,即從價帶躍遷到導帶,從而產生光生電子(e-)和空穴(h+)。此時吸附在納米顆粒表面的溶解氧俘獲電子形成超氧負離子,而空穴將吸附在催化劑表面的氫氧根離子和水氧化成氫氧自由基。

光催少乘察頸化原理

光催化原理

系統介紹

隨著全球化石能源日益枯竭、環境問題日益嚴峻，嚴重製約了人類的可持續發展。尋找清潔、安全、高效的新型能源成為了人們關注的重點。1

RTK光協良催化系統972年，日本FujishimaA和HondaK首次報導了TiO2光催化分解水產生H2這一現象後，揭示了利用太陽光分解水制氫的可能性，開闢了將太陽能轉換為氫能的研究道路。隨後，科學家們不斷研究具有高催化性的催化劑及研究體系，並取得了重大進展。光催化系統作為研究的必備儀器，起到了舉足輕重的作用。RTK光催化系統國內首家突破傳統體系，模擬工業化生產環境，實現常溫常壓條件下研究環境，採用獨特的RTKGMC專利技術，無需GC，直接對光催化過程中的產氣量歸戰擊（氫氣或氧氣）或產氣速率進行計量。同時，突破了傳統裝置由於自身設計所導致的低量程瓶頸，可以實現較高量程產氣量（產氣速率）的實時、線上監測，適用於各種不同產率的催化劑體系評價。光催化系統可以套用於常溫常壓光催化制氫、常溫常壓光催化制氧、常溫常壓二氧化碳還原以及光催化降解等領域。

RTK光催化系統

系統特點

1、非真空：實現常溫常壓條件下光解水制氫；

2、簡單不漏氣：配套裝置少，易操作，易維護。無真空玻璃管道，無複雜安裝。無閥門，不漏氣；

3、重複性好：直接計量產氣量（產氣速率），避免了傳統裝置因氣體循環不暢所導致的測量誤差，實驗重複性更好；

4、高棗廈巴量程：測量產率可高達滲喇端800mmol/g/h，適合各種產率催化劑體系的研究；

5、自動測量：RTKGMC專利技術，實時自動記錄測量數據，無需GC，無標定誤差；

6、無需計算：避免了傳統裝置產氫量的計算誤差，直接測量產氫體積（或質量、產氫速率），無需計算；

7、模擬工業環境：非真空環境更加接近真實的工業環境，可以探索工業條件下的光解水制氫；

8、多通道：可根據客戶的科研需求，個性化定製多通道裝置，有利於做平行實驗。

技術參數

1、工作去重拘悼環境：常溫常壓；

2、測量技術：GMC專利技術；

3、測量精度：0.0350mL；

4、測量量程：0-800mmol/g/h；

5、尺寸大小：1000px(L)*875px(W)*750px(H)

2、測量技術：GMC專利技術；

3、測量精度：0.0350mL；

4、測量量程：0-800mmol/g/h；

5、尺寸大小：1000px(L)*875px(W)*750px(H)