將矽片中軸線和曝光光學系統的光軸偏離後進行曝光，屬於光學曝光解析度增強技術的一種。 基本介紹 中文名：傾斜曝光外文名：continuous depth of focus expansion procedure 在積體電路晶片製造中，曝光時通過中間掩模版與矽片相向微動或者通過微旋轉矽片進行多次曝光（即矽片相對於曝光鏡頭和中間掩模版有一個微傾斜），以達到整個抗試劑厚度內都經過多次不同的焦平面曝光，可以達到顯著增強曝光焦深的效果，也稱之為焦點寬容度增強曝光（Focus Latitude Enhancement Exposure，FLEX）。
