二極濺射

二極濺射，由膜料製成的濺射靶材為陰極，工件為陽極構成真空鍍膜室內的兩電極，通電通氣後利用氣體的輝光放電、電漿技術進行鍍膜的方法。

基本介紹

• 中文名：二極濺射
• 定義：鍍膜方法