《二、三維微納米材料的製備與表征》是2022年國防工業出版社出版的圖書。
基本介紹
- 中文名：二、三維微納米材料的製備與表征
- 出版時間：2022年8月1日
- 出版社：國防工業出版社
- ISBN：9787118125795
內容簡介,圖書目錄,
內容簡介
《二、三維微納米材料的製備與表征》概述了從微觀到納米尺度的廣泛樣品製備和表征技術的科學原理，分為兩個部分：第一部分描述二維和三維製造技術；第二部分為在相同的解析度尺度上新的表征技術。
第1章討論了雷射干涉條紋法在巨觀區域快速製造亞微米級到微米級周期條紋的可能性。第2章介紹了不同的雷射輔助微加工技術及雷射微加工的典型套用，包括鑽孔、切割和標記。第3章討論了利用不同的方法，如納米壓印光刻和納米球自組裝，製備具有增強光學性能的納米結構材料。此外，還介紹了光學性質的表征。第4章主要研究離子束濺射自組織圖形的形成，給出了方法和實驗觀測的一般描述，展示了涉及的過程的複雜性，並指出了該技術的巨大潛力。第5章描述了利用附屬檔案製造技術製造具有增強力學性能的單元結構，重點介紹了雙光子聚合方法的研究進展。第6章和第7章討論了不同的X射線層析成像方法，包括微焦點x射線計算機層析成像和利用高能同步輻射的亞微米層析成像；同時還介紹了透射光束的光學x射線相位在提高該方法靈敏度方面的套用，給出了結構三維表征和缺陷分析的不同實例。第8章介紹了聚焦離子束斷層掃描方法，該方法通過重建由電子、X射線或離子探測器成像的二維切割（切片）提供的信息，實現對三維幾何圖形的納米表征。第9章介紹了原子探針層析成像方法，該方法能夠在原子尺度上繪製出物質中化學成分的三維分布；此外介紹了可分析半導體或氧化物的新方法。
《二、三維微納米材料的製備與表征》中描述的方法表明，通常有各種各樣的方法用來製造和表征微納米結構，在許多情況下使用的設備是商業上可用的或很容易組裝的。
《二、三維微納米材料的製備與表征》可供從事材料科學和工程的本科生、研究生及研究人員使用。
圖書目錄
第1章 雷射干涉圖形化在巨觀區域快速製作周期陣列的可行性
1．1 概述
1．2 多光束干涉圖案的強度計算
1．3 雷射干涉光刻
1．4 直接雷射干涉圖案
1．4．1 DLIP使用納秒雷射脈衝
1．4．2 DLIP使用飛秒雷射脈衝
參考文獻
第2章 雷射微加工
2．1 概述
2．2 矽的雷射微結構
2．2．1 雷射輻射與矽的相互作用
2．2．2 單脈衝和衝擊孔
2．2．3 矽的切割
2．2．4 矽的掩模投影消融
2．2．5 本節小結
2．3 低溫共燒陶瓷和聚合物的雷射連線
2．3．1 連線工藝
2．3．2 LTCC感測器實例
2．3．3 本節小結
參考文獻
第3章 納米尺度材料的圖形和光學性質
3．1 概述
3．2 結構化技術
3．2．1 納米壓印光刻
3．2．2 雷射干涉光刻
3．2．3 納米球自組裝技術
3，3 結構材料的光學特性
3．3．1 光子晶體
3．3．2 表面電漿
3．4 本章小結
參考文獻
第4章 離子束濺射
4．1 概述
4．2 實驗條件
4．3 Si上的自組織圖案
4．3．1 離子入射角
4．3．2 樣本旋轉
4，3．3 影響因素
4．3．4 離子能量
4．3．5 同時摻入金屬
4．3．6 其他實驗參數
4．4 其他材料
4．4．1 鍺
4．4．2 Ⅲ-V族化合物
4．4．3 熔融石英
4．4．4 金屬
4．5 本章小結
參考文獻
第5章 三維開放單元結構
5．1 概述
5．2 有限元建模
5．2．1 方法
5．2．2 線性彈性行為
5．2．3 非線性行為：變形局部化
5．3 多孔結構的製造
5．3．1 基於雷射的立體光刻
5．3．2 基於動態掩模的立體光刻
5．3．3 雙光子聚合
參考文獻
……
第6章 X射線微型斷層掃描法
第7章 採用高能同步輻射的亞微米斷層掃描
第8章 聚焦離子束層析成像對納米結構的表征
第9章 原子探針斷層掃描： 原子水平的三維成像
