並行程式設計環境及工具的研究

《並行程式設計環境及工具的研究》是依託中國人民解放軍國防科技大學，由陳福接擔任項目負責人的面上項目。

基本介紹

• 中文名：並行程式設計環境及工具的研究
• 項目類別：面上項目
• 項目負責人：陳福接
• 依託單位：中國人民解放軍國防科技大學
• 批准號：69073346
• 申請代碼：F0203
• 負責人職稱：教授
• 研究期限：1991-01-01 至 1993-01-01
• 支持經費：4（萬元）

中文摘要

本項研究發展了一種新的更為簡便實用的方法，可以以對電子全息圖中的微小的位相變化進行放大、測量，可以用來研究異質界面兩側的不同材料對電子波位相的影響，這一方法在國際上受到了好評；還首次在國內獲得了干涉條紋間距為0.07nm的電子全息圖和Si的高分辨象上迭加有0.1nm干涉條紋的電子全息圖，並利用計算機進行位相和振幅重構。另外，還有相干電子衍射，測量場發射槍電鏡的物鏡球差係數等方面開展了研究工作。